品牌 | 其他品牌 | 產地類別 | 進口 |
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應用領域 | 化工,能源,電子,交通 | | |
Kaleo MultiWave 是一臺多波長工作的光學元件面形測試系統,用于替代昂貴、低效、操作復雜的干涉儀,測量光學元件的表面面形、透過波差等參數。
Kaleo MultiWave 通過單次測量即可提供完整的3-D形貌及非平面元件的曲率。所有表面質量參數尊崇ISO 10110標準。表面不規則,粗糙度以及波紋亦可測試。
Kaleo MultiWave*的多波長測試功能可以在光學元件設計的工作波長進行測試,從而對光學元件基底、鍍膜獲得完整的評價。儀器具備和傳統干涉儀同等的精度,同時具備更大的動態范圍以測試復雜面形的光學元件。測試以雙程模式工作,兼容透射與反射測量。
多波長干涉儀:
同一機臺,多個波長
標配:625nm - 780nm - 1050nm
可選:UV - 400nm - 1100nm - 短波紅外
高動態范圍:
> 20um PV
高度畸變波前測試
高精度:
精度與干涉儀同等
高重復度,低噪聲
高性價比的干涉儀解決方案
規范:
遵從ISO 5725 標準
兼容MetroPro 格式
兼容 ISO 10110 格式
用途:
表面面形測試
鍍膜(AR,介質膜,金屬膜測試......)
窗片,干涉濾光片測試
透鏡,非平面鏡測試
應用:
光學元件研發制造
濾光片及窗片制造
空間及防務
汽車工業
激光器及其應用
光學元件面型測量儀KALEO MultiWave技術指標:
光路結構 | 雙通路 |
標準配置波長 | 625, 780, 1050nm |
可選波長 | 400 - 1100nm,UV, IR |
有效口徑 | 130mm |
可重復性 (ISO 5725) | < 5nm rms |
可再造性 (ISO 5725) | <7nm rms |
動態范圍 (失焦), RWE | 10um PV |
動態范圍 (失焦), TWE | 200nm rms |
精度 (RWE) | <80nm rms |
精度 (TWE) | <20nm rms |
光學元件面型測量儀KALEO MultiWave測試實例:
與Fizeau干涉儀測試結果的比較
NBP-780濾光片測試。二者測量RWE的偏差小于40nm P-V
非球面鏡3-D面形
單次測量,無需空白透鏡??赏ㄟ^扣除理想曲面得知面形殘余誤差,從而獲知非球面鏡的加工質量。
產線設備監控
通過對塑料、樹脂模壓光學元件的直接測試,實時獲知加工效果,對模具狀態、工件調整精度等作出實時評價。