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193nm激光器 準分子加工系統

簡要描述:193nm激光器 準分子加工系統產品特點:
全部實現風冷,無需水冷;
結構緊湊,脈沖頻率高,Z高重復頻率到1kHz;
全新技術金屬-陶瓷腔體;
光束均勻性好
集成的真空泵和鹵素濾光片
激光頭體積<3L
提供能量穩定模式,保證能量穩定輸出;

  • 產品型號:
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2024-10-15
  • 訪  問  量:4421
詳細介紹

193nm激光器 準分子加工系統

 

 

193nm激光器 準分子加工系統產品外觀圖

 

典型的均勻光斑形貌

 

微加工系統

 

產品特點

全部實現風冷,無需水冷;

結構緊湊,脈沖頻率高,zui高重復頻率到1kHz;

全新技術金屬-陶瓷腔體;

光束均勻性好

集成的真空泵和鹵素濾光片

激光頭體積<3L

提供能量穩定模式,保證能量穩定輸出;

 

應用:

微加工

激光融蝕

醫學(眼睛手術)

光譜

計量

光纖布拉格光柵刻寫

 

參數

ATLEX-300-I 參數

ATLEX-300-I 參數

氣體介質

F2

ArF

KrF

XeCl

XeF

單位

波長

157

193

248

308

351

nm

高壓開關技術

固態開關

 

zui大脈沖能量1

1

10

15

8

7

mJ

zui大平均功率

0.2

2.4

4.0

2.0

1.7

W

zui大重復頻率

300

Hz

脈寬2

5-8

ns

光斑尺寸(V*H)

4*6

mm

光束發散角(V*H)

1*2

mrad

能量穩定性

<3

%

尺寸(L*W*H)

540*470*370

mm

重量

60

kg

制冷

風冷

 

供電要求

230 VAC/6.3A/1 phase/50-60Hz

 

  • 在低重復頻率下測量,應用能量穩定模式降會有10%的輸出能量損失
  • 典型值,半高全寬(FWHM)

 

ATLEX-500-I 參數

ATLEX-500-I 參數

氣體介質

F2

ArF

KrF

XeCl

XeF

單位

波長

157

193

248

308

351

nm

高壓開關技術

固態開關

 

zui大脈沖能量1

1

10

15

8

7

mJ

zui大平均功率

0.5

4.0

6.5

3.0

2.5

W

zui大重復頻率

500

Hz

脈寬2

5-8

ns

光斑尺寸(V*H)

4*6

mm

光束發散角(V*H)

1*2

mrad

能量穩定性

<3

%

尺寸(L*W*H)

540*470*370

mm

重量

60

kg

制冷

風冷

 

供電要求

230 VAC/6.3A/1 phase/50-60Hz

 

  • 在低重復頻率下測量,應用能量穩定模式降會有10%的輸出能量損失
  • 典型值,半高全寬(FWHM)

 

ATLEX-1000-I 參數

ATLEX-1000-I 參數

氣體介質

ArF

KrF

單位

波長

193

248

nm

高壓開關技術

固態開關

zui大脈沖能量1

10

15

mJ

zui大平均功率

4.0

6.5

W

zui大重復頻率

1000

Hz

脈寬2

5-8

ns

光斑尺寸(V*H)

4*6

mm

光束發散角(V*H)

1*2

mrad

能量穩定性

<3

%

尺寸(L*W*H)

540*470*370

mm

重量

60

kg

制冷

風冷

 

供電要求

230 VAC/10A/1 phase/50-60Hz

 

  • 在低重復頻率下測量,應用能量穩定模式降會有10%的輸出能量損失
  • 典型值,半高全寬(FWHM)

 

ATLEX-300-FBG 參數

ATLEX-300-FBG 參數

氣體介質

ArF

KrF

單位

波長

193

248

nm

高壓開關技術

固態開關

zui大脈沖能量1

10

15

mJ

zui大平均功率

2.4

4.0

W

空間相關性(垂直方向)

>300

>300

um

zui大重復頻率

300

Hz

脈寬2

5-8

ns

光斑尺寸(V*H)

4*6

mm

光束發散角(V*H)

1*2

mrad

能量穩定性

<3

%

尺寸(L*W*H)

540*470*370

mm

重量

60

kg

制冷

風冷

 

供電要求

230 VAC/6.3A/1 phase/50-60Hz

 

  • 在低重復頻率下測量,應用能量穩定模式降會有10%的輸出能量損失
  • 典型值,半高全寬(FWHM)

 

ATLEX-500-FBG 參數

ATLEX-500-FBG 參數

氣體介質

ArF

KrF

單位

波長

193

248

nm

高壓開關技術

固態開關

zui大脈沖能量1

10

15

mJ

zui大平均功率

4.0

6.5

W

空間相關性(垂直方向)

>300

>300

um

zui大重復頻率

500

Hz

脈寬2

5-8

ns

光斑尺寸(V*H)

4*6

mm

光束發散角(V*H)

1*2

mrad

能量穩定性

<3

%

尺寸(L*W*H)

540*470*370

mm

重量

60

kg

制冷

風冷

 

供電要求

230 VAC/6.3A/1 phase/50-60Hz

 

  • 在低重復頻率下測量,應用能量穩定模式降會有10%的輸出能量損失
  • 典型值,半高全寬(FWHM)

 

ATLEX-LR 參數

ATLEX-LR 參數

氣體介質

ArF

單位

波長

193

nm

zui大脈沖能量1

12

mJ

zui大穩定輸出能量

10

mJ

脈寬2

5

Ns

光斑尺寸(V*H)

4*6

mm

光束發散角(V*H)

1*2

mrad

能量穩定性

<2

%

尺寸(L*W*H)

540*470*370

mm

重量

60

kg

制冷

風冷

 

供電要求

230 VAC/6.3A/1 phase/50-60Hz

 

  • 在低重復頻率下測量,應用能量穩定模式降會有10%的輸出能量損失
  • 典型值,半高全寬(FWHM)

 

 


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