激光M2因子分析儀是模塊式的，包括一個光學掃描器，安裝于溫度濕度都可控的腔室里，基本配置可實現二維輪廓的靜態特征，及通過熱噪聲和單點測量來確定的諧振頻率，除了基本配置，還可配備如下工作模塊：

　　動態模塊可以測量任何振動器件的全譜響應，無論是依靠熱激勵或者是外力激勵（壓電驅動）同時能提供機械振動的實時成像。如：機械傳感器的動態特性可以用一個簡單且用戶友好的方式測得。

　　分析儀基于半導體激光吸收光譜技術，無需采樣預處理系統，能夠在高溫、高粉塵、高腐蝕等惡劣的環境下進行原位氣體濃度測量的分析儀表，采用隔爆設計，無需對儀表進行正壓吹掃，提高儀表的應用適應性，為缺乏正壓氣源或氣源壓力不穩定的應用場合提供了完整的防爆選擇方案，從根本上解決了采樣預處理帶來諸如響應滯后、維護頻繁、易堵易漏、易損件多和運行費用高等各種問題，并具有如下特點：

　　1.無氣體交叉干擾，特定組分氣體只在特定波長下存在吸收譜，具有較強的氣體選擇性；

　　2.光路設計，能有效消除現場振動對光路的影響；

　　3.激光M2因子分析儀測量方式靈活，既可適應于高達1000℃高溫下的原位測量，亦可配備旁路采樣系統對氣體分析監測；

　　4.光強補償算法，保證儀器在高粉塵、高顆粒物的工況條件下仍準確分析監測；

　　5.多種測量方式，直接吸收、1f、2f等，結合專業的譜圖分析方法，保證測量結果的靈敏度和線性范圍；

　　6.溫度、壓力補償，外部溫度、壓力輸入或內置溫度、壓力傳感器，結合優化的補償算法，提高測量準確性。