Moxtek專為240nm到400nm紫外波段應用設計紫外偏振片，采用特*的納米線柵技術，性能優異，具有大入射角，寬波長范圍，耐熱性高，高透過率，高消光比等特點。

產品型號和規格

技術數據：透過率以及消光比

紫外偏振片主要應用

1.半導體設備應用：

DUV步進器和DUV掃描儀是半導體生產過程中的核心和關鍵單元。使用波長為248 nm和193 nm的單色紫外線輻射，將結構從光掩模板轉移到襯底上。在光刻材料的曝光中增加偏振光可將分辨率提高20%。

紫外偏振片也廣泛用在無圖形晶圓光學檢測設備上，實現高精度的缺陷檢測。

2.紫外線固化

偏振紫外線用于固化高*印刷行業中使用的紫外線敏感油墨，使用偏振光可以實現更快的生產速度和更大的產能，從而提高機器和工廠的利用率。

3.光對準Photo Alignment

使用240至300nm范圍內的線性偏振紫外線，可以實現LC顯示器行業的精確對準，以生成各向異性對準膜。傳統的摩擦聚酰亞胺會產生灰塵、靜電和機械損傷。在不用大面積變動的情況下，UV偏振光允許極快生成均勻和穩定的偏置傾斜角。

4.光譜儀

Moxtek UVD260和UVD240偏振片可用于光譜儀，與Glan-Taylor棱鏡相比，其小尺寸、寬接受角、均勻性和寬波長帶寬特點具備明顯的優勢，另外相比傳統的Glan-Taylor棱鏡，UVD系列偏振片還具有更高的對比度和透過率，同時支持更大的AOI，需要更少的空間，沒有光學像差，厚度僅為2mm左右。