技術文章
當前位置:
主頁 >
技術文章 > 關于棱鏡耦合測試儀你的了解有多少?
關于棱鏡耦合測試儀你的了解有多少?
更新更新時間:2021-08-28 點擊次數:903
可以提供精確的、非接觸、無損膜厚度測量,適用于薄膜厚度在2-100µm的聚合物材料、硅基氧化膜、硅基玻璃膜,在干涉條紋產生的基礎上通過改變角度產生干涉條紋(VAMFO-變角度單色條紋觀測)的方法。對于厚膜折射率的測量,單色光被直接照射到被測樣品上,這樣,從薄膜表面反射回來的光的干涉小值就會發生變化,光的入射角也會發生變化。在這種技術中,薄膜厚度是由兩個干涉小值的角的位置計算出來的。對于這種測量條件——薄膜具有兩個或兩個以上的干擾小值——薄膜厚度必須大于低脫粒率,通常為2微米。樣品夾持機采用真空從背面支撐樣品,安裝方便簡單。可測量薄膜/基底的類型,硅襯底上幾乎任何透明或半透明材料的氧化物、氮化物、介質、聚合物或薄膜。可測量的薄膜/襯底類型:氧化物、氮化物、介電材料、聚合物、或硅襯底上幾乎任何透明或半透明材料的薄膜。
主要技術指標:
折射率準確度:±0.0005(甚至更高0.0001-0.0002)
折射率分辨率:±0.0003(甚至高于0.00005)
厚度精度:±(0.5%+50Å)厚度分辨率:±0.3%
折射率測量范圍:1.0-3.35
操作波長:632.8nm,1310nm,1550nm以及其他可見光/近紅外光
允許的基底材料:硅、砷化鎵、玻璃、石英、GGG、藍寶石、鋰酸鈮等
軟件:windowsversion操作軟件
輸出:計算機顯示和打印機輸出
主要應用領域:
光波導器件
激光晶體材料
聚合物材料
顯示技術材料
光/磁存儲材料
光學薄膜